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MaterialsMIREK™, Abrasive for glass polishing, 세륨계 연마재
Manufacturer MITSUI MINING & SMELTING CO.,LTD. Specificatinon • 파우더 및 슬러리 등 제품별 상이 Origin Japan Application • TGV(Through Glass Via) 관련 반도체용 유리기판 연마 및 기판 평탄화 용도
• 전자공업, 광학공업 등의 산업분야에서 하드디스크 글라스 기판, 액정 글라스 기판, 포토 마스크, 광학 글라스 연마용 연마재로 사용됨Main Product MIREK HL 시리즈
• HL05, HL10, HL21 : Final polishing 용
• HL30, HL40 : Primary polishing 용
Main Character • 산화세륨을 주성분으로 하는 연마재로 Primary polishing용에서 Final polishing 용까지 다양한 입경을 고루 갖추고 있음
• 고도의 기술로 다양하게 변화하는 고객의 요구에 대응 가능